Bombardement av ladede energiske ioner i vakuumforsølvbelegg
Legg igjen en beskjed
Bombardement av ladede energiske ioner i vakuumforsølvbelegg
Sammenlignet med fordampningsplettering og forstøvningsplettering, er det største trekk ved ioneplettering at ladede ioner bombarderer substratet og filmlaget mens de avsettes, og bombardementet av ladede ioner gir en rekke effekter, hovedsakelig som følger. 1. Film/base-bindingskraften (adhesjonen) er sterk, og filmlaget er ikke lett å falle av. På grunn av sputtereffekten av ionebombardementet av substratet, blir substratet renset, aktivert og oppvarmet, noe som ikke bare kan fjerne gassen og forurensningslaget adsorbert på overflaten av substratet, men også fjerne oksidet på overflaten av substratet. substrat. Oppvarming og defekter generert under ionebombardement kan forårsake forbedrede diffusjonseffekter i matrisen. Det forbedrer ikke bare mikrostrukturen og krystalliseringsytelsen til overflatelaget til matrisen, men gir også betingelsene for dannelsen av legeringsfase. Dessuten kan ionebombardement med høyere energi også gi visse ioneimplantasjons- og ionestråleblandingseffekter.
Det er en lav sputterhastighet i den innledende fasen av vakuumforsølvbeleggsfilm
Den såkalte sputtering er et fenomen der ladede partikler (vanligvis positive ioner av en inert gass) brukes til å bombardere overflaten til et fast stoff (heretter referert til som et mål), og derved forårsaker atomer (eller molekyler) på overflaten av målet for å rømme fra det. Dette fenomenet ble oppdaget av Grove i 1842 da han eksperimentelt studerte problemet med katodekorrosjon, og katodematerialet ble migrert til veggen av vakuumrøret. Bruken av denne forstøvningsmetoden for å avsette tynne filmer på underlag ble introdusert i 1877. Imidlertid, i det innledende stadiet av avsetning av tynne filmer ved denne metoden, er det en rekke problemer som lav sputterhastighet, langsom filmdannende hastighet, høy trykk og inertgass må stilles inn på enheten.
www.superbheater.com
