Hvordan endrer bromidionet (Br⁻) groppotensialet fra +0.6V (Cl⁻) til +0.4V vs. Ag/AgCl i en titanium-elektrisk varmeovn for en 10 % natriumbromidløsning ved 70 grader, og akselererer gropdannelsen med en faktor 2 sammenlignet med klorid?

Pittingpotensialet for grad 2 titan i natriumbromid 10 % ved 70 grader er +0.3 til +0.5 V versus Ag/AgCl. Pittingpotensialet i en analog kloridløsning er +0.5 til +0.7 V. Mer aggressivt enn klorid er bromid, siden bromidionet er større og mer polariserbart og dermed adsorberer kraftigere og destabiliserer den passive filmen mer effektivt . 300-800 timer i klorid i samme konsentrasjon mot 100-300 timer i bromid.

Mekanisme for bromidaggressivitet

Bromidioner har lavere hydreringsenergi og større polariserbarhet enn klorid. De angriper lettere den passive filmen og lager løselige titan-bromidkomplekser. Det kritiske groppotensialet var lavere og gropveksten var raskere.

Kvantitativt pittingpotensial og tid vs. halogenid

Halogenidkonsentrasjon (M) gropdannelsespotensial (V vs. Ag/AgCl) Tid til gropdannelse ved +0.2 V (timer) gropforplantningshastighet (mm.yr
Klorid 2 +0.5 til +0.7 300-800 .1-.3
Bromid 2 +0.3 til +0.5 100-300 0.2-0.5
Jodid 2 +0.1 til +0.3 20-80 0.5-1.0 Halide Aggressiveness Index

Halid relativ pitting-følsomhet (Cl-=1)
Cl⁻ 1
Br- 2-3
I- 5-10
En informert spesifikasjon

For bromidløsninger, bruk Grade 7 titanium, som har et pittingpotensial 200-300 mV høyere enn Grade 2. Ingeniøren kan velge riktige materialer i henhold til bromidets aggressivitet.