Tube Type PECVD Electric Furnace brukt i fotovoltaisk industri

1, kjernefunksjon: Effektiv deponering av tynne filmer med høy ytelse
Den rørformede PECVD -ovnen (plasmaforbedret kjemisk dampdeponering av rørformet ovn) er et ofte brukt utstyr i produksjonen av fotovoltaiske celler . Den kjernefunksjonen er å sette inn silisium nitride (Sinx) -batteriet gjennom Crystallin -silispor. følgende mekanismer:
Optisk optimalisering: Ved å justere tykkelsen og brytningsindeksen for Sinx -tynn film, ved å bruke prinsippet om lysforstyrrelse for å redusere overflatrefleksjon, kommer mer lys inn i interiøret i batteriet, og den fotoelektriske konverteringseffektiviteten forbedres med 1% -2% .
Overflatepassivering: Hydrogenelementet i SINX kan passivere gitterdefekter (for eksempel dislokasjoner og dinglende bindinger) på silisiumoverflaten, redusere bærerekombinasjon og øke åpen kretsspenning og kortslutningsstrøm .
Mekanisk beskyttelse: Filmen fungerer som et innkapslingslag for å forhindre forurensning eller mekanisk skade på silisiumskiven under påfølgende prosesser .

2, tekniske fordeler: lav temperatur, høy effektivitet, presis kontroll
Sedimenteringsprosess med lav temperatur
PECVD -teknologi bruker plasma for å begeistre reaktive gasser, og reduserer deponeringstemperaturen til 400-500 grad (tradisjonell CVD krever over 800 grader), og unngår termisk skade på silisiumskiver og substratmaterialer ved høye temperaturer, spesielt egnet for fremstilling av tynne og fleksible batterier {{2}
Høy sedimentasjonsrate og ensartethet
Radiofrekvensglødteknologi: Ved å generere plasma med høy tetthet gjennom høyfrekvente elektriske felt (for eksempel 13 . 56MHz), forbedres reaksjonshastigheten kraftig, og deponeringshastigheten kan nå 10-50 nm/min.
Uniformitetskontroll: Vedtak av multi-punkts RF-fôring, ensartet gassbanefordeling og intelligent temperaturkontrollsystem for å sikre filmtykkelse Uniformitet på mindre enn eller lik ± 5%, og imøtekomme behovene til storskala produksjon .
Materiell mangfold
Den kan sette inn forskjellige dielektriske filmer som SiO ₂, Si ∝ n ₄, Al ₂ o ∝, etc ., og utvide designrommet til batterikonstruksjoner (for eksempel stablede batterier og passiverte batterier) .
Miljøvern og energibesparing
Teknologi med lav temperatur reduserer energiforbruket mens du unngår utslipp av skadelige stoffer ved høye temperaturer, noe som er i tråd med trenden med grønn produksjon i fotovoltaisk industri .

3, utstyrsstruktur og nøkkelparametere
Typisk konfigurasjon
Varmesystem: Enkelt temperatursone eller multemperatur sone motstandsovn, med en maksimal temperatur på 1200 grader og en temperaturkontrollnøyaktighet på ± 1 grad .
Vakuumsystem: En kombinasjon av molekylær pumpe og mekanisk pumpe, med en maksimal vakuumgrad på mindre enn eller lik 10 ⁻ PA, og oppfyller kravene til høyrenhet tynn filmavsetning .
RF strømforsyning: støtter presis kontroll av plasmatetthet .
Gasssystem: Multi Channel Mass Flow Meter (MFC), Støttende 1-6 Gassblandinger .
Prosesskontroll
Temperaturkurveprogrammering: Støtter temperaturstigning og fallprogrammer på mer enn 30 segmenter, og tilpasser seg prosesskravene til forskjellige filmmaterialer .
Trykkkontroll: Positivt trykkområde -100 KPA til 100kpa, som støtter lavtrykk til atmosfæretrykkprosessbytte .
Intelligent overvåking: Utstyrt med funksjoner som overopphetingsalarm, overstrømsbeskyttelse og frakobling for å sikre stabil drift av utstyret .

4, applikasjonsscenarier og markedstrender
Mainstream -applikasjoner
PERC Cell: Ved å deponere en bakside Al ₂ o ∝/sinx -laminert film, oppnås de doble funksjonene til bakside passivering og anti -refleksjon .
TopCon -batteri: Bruker PECVD -avsetning av tunnelingsoksidlag (SIO ₂) og dopet polykrystallinsk silisiumlag for å konstruere effektive transportkanaler .
HJT-batteri: Avsetning av iboende amorf silisium (IA-Si: H) ved grensesnittet til amorf silisium/krystallinsk silisium heterojunksjon for å optimalisere tettheten av grensesnittfeilstater .